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普發渦輪分子真空泵HiPace 400是一款適用于科研級高真空系統的渦輪分子泵,我司常備現貨,服務北大、清華等客戶

發布日期:2026-3-31 9:36:24 訪問次數:422

普發渦輪分子真空泵HiPace 400是一款適用于科研級高真空系統的渦輪分子泵,我司常備現貨,服務北大、清華等客戶

普發渦輪分子泵Hipace 400

普發分子泵現貨北京發貨

可靠
同類產品中最佳的混合軸承技術,卓越的軸承潤滑,使用壽命長
性能卓越
優化轉子幾何形狀,提高氣體負載處理能力
高氣體流量
高(gao)抽速,與多(duo)種前級泵兼容,對輕質氣體具有出(chu)色的壓(ya)縮比

技術參數 HiPace 400,搭配 TC 400 24 V
氫氣抽速 445 l/s
氦氣抽速 470 l/s
氬氣抽速 320 l/s
氮氣抽速 355 l/s
氫氣壓縮比 4 · 10?
氦氣壓縮比 3 · 10?
氬氣壓縮比 1 · 1011
氮氣壓縮比 1 · 1011
最終轉速下的氫氣氣體流量 14 hPa l/s
最終轉速下的氦氣氣體流量 20 hPa l/s
最終轉速下的氬氣氣體流量 3.5 hPa l/s
最終轉速下的氮氣氣體流量 6.5 hPa l/s
適用于氮氣的最大前級真空 11 hPa
啟動時間 4 最小
可選通信接口 Profibus、Profinet、Ethercat、Devicenet、Semi E74
標準通信接口 RS-485,遠程
安裝方向 任意
聲壓級(EN ISO 2151) 50 dBA
重量(約) 11.6 kg
進氣口 DN 100 ISO-K/ISO-F/CF-F
排氣口 DN 25 ISO-KF /G 1/4"
應用方向

1、車輛及運輸
太空探索
2、醫療
診斷成像
醫用加速器
質譜儀
3、發電
綠色能源生產
4、研發
太空探索
超高真空
質譜分析
5、科學儀器
質譜分析
表面分析
6、半導體
LPCVD / 擴散
剝離 / 灰化
PVD
檢驗與計量
Si Poly etch
輕沉積
離子注入
PECVD
光刻技術
金屬和高 K 蝕刻
氧化物蝕刻
Load lock 和 傳輸
ALD
6、技術氣體
裝瓶


工作時間

早9:00 - 晚(wan)18:00

周(zhou)六(liu)日休息