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普發渦輪分子真空泵HiPace 700,常備現貨

發(fa)布(bu)日期(qi):2026-4-1 9:24:44 訪(fang)問次數:408

普發渦輪分子真空泵HiPace 700,常備現貨

普發分子泵Hipace700

普發分子泵Hipace700

技術參數 HiPace 700,搭配 TC 400
氫氣抽速 555 l/s
氦氣抽速 655 l/s
氬氣抽速 665 l/s
氮氣抽速 685 l/s
氫氣壓縮比 4 · 10?
氦氣壓縮比 3 · 10?
氬氣壓縮比 1 · 1011
氮氣壓縮比 1 · 1011
最終轉速下的氫氣氣體流量 14 hPa l/s
最終轉速下的氦氣氣體流量 20 hPa l/s
最終轉速下的氬氣氣體流量 3.5 hPa l/s
最終轉速下的氮氣氣體流量 6.5 hPa l/s
適用于氮氣的最大前級真空 11 hPa
啟動時間 4 最小
可選通信接口 Profibus、Profinet、Ethercat、Devicenet、Semi E74
標準通信接口 RS-485,遠程
安裝方向 任意
聲壓級(EN ISO 2151) 50 dBA
重量(約) 11.5 kg
進氣口 DN 160 ISO-K/ISO-F/CF-F
排氣口 DN 25 ISO-KF /G 1/4"
市場和應用
1、車輛及運輸
熱處理
泄漏檢測和 EoL 測試
太空探索
電子束焊
3D 打印
2、電池
泄漏檢測和 EoL 測試(主控)
3、化學品
實驗室真空
4、氫能經濟
泄漏檢測和 EoL 測試(主控)
5、醫療
診斷成像
實驗室真空
醫用加速器
質譜儀
6、冶金
電子束焊
真空銅焊 / 釬焊
3D 打印
熱處理
7、制藥與生物技術
實驗室真空
8、發電
綠色能源生產
9、研發
高能物理
太空探索
超高真空
等離子體物理
實驗室真空
質譜分析
10、制冷和空調
泄漏檢測和 EoL 測試
科學儀器
質譜分析
表面分析
11、半導體
LPCVD / 擴散
剝離 / 灰化
PVD
檢驗與計量
Si Poly etch
輕沉積
離子注入
PECVD
光刻技術
金屬和高 K 蝕刻
氧化物蝕刻
Load lock 和 傳輸
ALD
12、技術氣體
裝瓶
13、薄膜鍍層
實驗室涂層

工作時間

早9:00 - 晚(wan)18:00

周六日休息